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Improvement of Oxidation-Induced Ge Condensation Method by H^+ Implantation and Two-Step Annealing for Highly Stress-Relaxed SGOI
网址
DOI
10.7567/ssdm.2004.c-8-2 doi
其它 期刊:The Japan Society of Applied Physics
作者:T. Sadoh; Ryo Matsuura; M. Ninomiya; M. Nakamae; T. Enokida; et al
出版日期:2004-09-15
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lgh 在 2026-09-20 15:48:41 发布自陕西,悬赏 10 积分
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