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标题
Selective etch process for fab-compatible top contacts, replacement oxide, and interlayer removal in 2D FETs
网址
http://xplorestaging.ieee.org/ielx8/11353461/11353475/113537...
DOI
10.1109/iedm50572.2025.11353796 doi
其它 期刊：International Electron Devices Meeting
作者：Q. Smets; T. Schram; D. van Dorp; Y. Jiang; A. Opdebeeck; et al
出版日期：2025-12-06
求助人
Murmansk 在 2026-09-11 10:43:17 发布自江苏，悬赏 10 积分
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