标题 |
Effect of oxidation on the chemical bonding structure of PECVD SiNx thin films
氧化对PECVD SiNx薄膜化学键结构的影响
相关领域
等离子体增强化学气相沉积
氮化硅
X射线光电子能谱
材料科学
无定形固体
二氧化硅
化学气相沉积
薄膜
晶体硅
硅
化学键
傅里叶变换红外光谱
红外光谱学
化学计量学
化学工程
分析化学(期刊)
化学
结晶学
纳米技术
复合材料
光电子学
物理化学
有机化学
工程类
|
网址 | |
DOI | |
其它 |
期刊:Journal of Applied Physics 作者:Neerushana Jehanathan; Yinong Liu; B.A. Walmsley; John Dell; Martin Saunders 出版日期:2006-12-15 |
求助人 | |
下载 | |
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
array yield 求助人 Lv3 关闭了本次求助。
说明 找不到【积分已退回】
array yield 求助人 Lv3 发起了本次求助