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 Fabrication of 53.2 nm pitch self-traceable gratings by laser-focused atomic deposition combined with extreme ultraviolet interference lithography 激光聚焦原子沉积结合极紫外光干涉光刻制作53.2 nm间距自跟踪光栅
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期刊：Optik 作者：Zhaohui Tang; Jun Zhao; Xiao Deng; Wen Tan; Yanqing Wu; et al 出版日期：2023-03-01 |
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