Fabrication of 53.2 nm pitch self-traceable gratings by laser-focused atomic deposition combined with extreme ultraviolet interference lithography

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作者
Zhaohui Tang,Jun Zhao,Xiao Deng,Wen Tan,Yanqing Wu,Renzhong Tai,Xinbin Cheng,Tongbao Li
出处
期刊:Optik [Elsevier BV]
卷期号:279: 170735-170735 被引量:8
标识
DOI:10.1016/j.ijleo.2023.170735
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