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Effect of Substrate Negative Bias on the Microstructural, Optical, Mechanical, and Laser Damage Resistance Properties of HfO2 Thin Films Grown by DC Reactive Magnetron Sputtering
衬底负偏压对直流反应磁控溅射HfO2薄膜微观结构、光学、力学和抗激光损伤性能的影响
相关领域
材料科学 薄膜 溅射沉积 偏压 高功率脉冲磁控溅射 基质（水族馆） 溅射 粒度 直流偏压 微观结构 脉冲激光沉积 光电子学 复合材料 纳米技术 电压 电气工程 海洋学 工程类 地质学
网址
https://www.mdpi.com/2072-666X/14/9/1800/pdf?version=1695281...
DOI
10.3390/mi14091800 doi
其它 期刊：Micromachines
作者：Yingxue Xi; Xinghui Qin; Wantong Li; Xichun Luo; Jin Zhang; et al
出版日期：2023-09-21
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安详的凝竹 在 2025-08-04 17:16:55 发布，悬赏 10 积分
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