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  Effect of Substrate Negative Bias on the Microstructural, Optical, Mechanical, and Laser Damage Resistance Properties of HfO2 Thin Films Grown by DC Reactive Magnetron Sputtering 衬底负偏压对直流反应磁控溅射HfO2薄膜微观结构、光学、力学和抗激光损伤性能的影响
相关领域
材料科学
薄膜
溅射沉积
偏压
高功率脉冲磁控溅射
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直流偏压
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期刊：Micromachines 作者：Yingxue Xi; Xinghui Qin; Wantong Li; Xichun Luo; Jin Zhang; et al 出版日期：2023-09-21 |
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