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标题
Role of secondary etching of silicon nanowires towards quantum confinement effect
硅纳米线二次刻蚀对量子限制效应的作用
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材料科学 量子点 蚀刻（微加工） 潜在井 纳米技术 硅 带隙 纳米线 半导体 光致发光 各向同性腐蚀 光电子学 纳米结构 拉曼光谱 高分辨率透射电子显微镜 玻尔半径 光学 透射电子显微镜 物理 图层（电子）
网址
https://doi.org/10.1016/j.spmi.2021.106949
DOI
10.1016/j.spmi.2021.106949 doi
其它 期刊：Superlattices and Microstructures
作者：Mihir Kumar Sahoo; Paresh Kale
出版日期：2021-06-05
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fczs 在 2025-08-24 08:30:15 发布，悬赏 10 积分
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