Aggressively Scaled Atomic Layer Deposited Amorphous InZnOx Thin Film Transistor Exhibiting Prominent Short Channel Characteristics (SS= 69 mV/dec.; DIBL = 27.8 mV/V) and High Gm(802 μS/μm at VDS = 2V)

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标题	Aggressively Scaled Atomic Layer Deposited Amorphous InZnOx Thin Film Transistor Exhibiting Prominent Short Channel Characteristics (SS= 69 mV/dec.; DIBL = 27.8 mV/V) and High Gm(802 μS/μm at VDS = 2V)
网址	http://xplorestaging.ieee.org/ielx7/10185199/10185158/101853...
DOI	10.23919/vlsitechnologyandcir57934.2023.10185343 doi
其它	期刊：2023 IEEE Symposium on VLSI Technology and Circuits (VLSI Technology and Circuits) 作者：Yan-Kui Liang; June-Yang Zheng; Yu-Lon Lin; Wei-Li Li; Yu-Cheng Lu; et al 出版日期：2023-07-25
求助人	自觉冰海在 2026-05-28 16:31:01 发布自福建，悬赏 10 积分
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