| 标题 |
Evaluation of microstructural and electrical properties of WO3-x thin films for p-Si/n-WO3-x/Ag junction diodes 相关领域
材料科学
热离子发射
薄膜
三氧化钨
二极管
基质(水族馆)
可变距离跳频
旋涂
三氧化钼
分析化学(期刊)
电阻率和电导率
阿累尼乌斯方程
钨
钼
纳米技术
光电子学
复合材料
活化能
化学
物理化学
冶金
工程类
热传导
电子
地质学
物理
电气工程
海洋学
量子力学
色谱法
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Optik 作者:M. Raja; J. Chandrasekaran; M. Balaji 出版日期:2016-09-05 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)