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 High-NA EUV imaging: the quest for resolution, depth-of-focus, and productivity 相关领域
极紫外光刻
扫描仪
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光学（聚焦）
计算机科学
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极端紫外线
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期刊： 作者：Eelco van Setten; Sofia Leitao; Claire van Lare; Jan van Schoot; Jo Finders; et al 出版日期：2022-11-11 |
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