| 标题 |
Transport measurements in silicon-on-insulator films: Comparison of Hall effect, mobility spectrum, and pseudo-metal-oxide-semiconductor-field-effect-transistor techniques 相关领域
场效应晶体管
霍尔效应
电子迁移率
硅
材料科学
半导体
凝聚态物理
晶体管
场效应
MOSFET
磁场
光电子学
电气工程
物理
电压
量子力学
工程类
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Journal of Applied Physics 作者:T. V. Chandrasekhar Rao; J. Antoszewski; L. Faraone; S. Cristoloveanu; Thang K. Nguyen; et al 出版日期:2008-02-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)