| 标题 |
Using MoOx/p-Si Selective Contact for Evaluation of the Degradation of a Near-Surface Region of Silicon 相关领域
硅
材料科学
降级(电信)
图层(电子)
沉积(地质)
光电子学
氧化硅
溅射沉积
氧化物
溅射
化学工程
纳米技术
薄膜
电子工程
冶金
古生物学
氮化硅
工程类
生物
沉积物
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Technical Physics Letters 作者:D. A. Kudryashov; А.С. Гудовских; A. A. Maksimova; A I Baranov; A V Uvarov; et al 出版日期:2020-12-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时,文件已从服务器自动删除,无法下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)