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标题
Novel deuterated cyclopentadienyl zirconium/hafnium precursors for atomic layer deposition of high-performance ZrO2/HfO2 thin films
用于高性能ZrO2/HfO2薄膜原子层沉积的新型氘化环戊二烯基锆/铪前驱体
相关领域
原子层沉积 热稳定性 薄膜 材料科学 铪 锆 退火（玻璃） 微电子 环戊二烯基络合物 电介质 结晶度 高-κ电介质 化学工程 化学 纳米技术 光电子学 有机化学 复合材料 催化作用 冶金 工程类
网址
https://doi.org/10.1016/j.apmt.2024.102354
DOI
10.1016/j.apmt.2024.102354 doi
其它 期刊：Applied Materials Today
作者：Sung Soo Park; Yoona Choi; Sangwook Park; Hayoon Lee; Kiho Lee; et al
出版日期：2024-07-26
求助人
Zyj 在 2025-12-29 16:46:13 发布自福建，悬赏 10 积分
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