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 Optimization and stability of CD variability in pitch 40 nm contact holes on NXE:3300 NXE：3300上40 nm间距接触孔CD变异性的优化和稳定性
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期刊：International Conference on Extreme Ultraviolet Lithography 2018 作者：Lieve van Look; Joost Bekaert; Andreas Frommhold; Eric Hendrickx; Gijsbert Rispens; Guido Schiffelers 出版日期：2018-10-04 |
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