Mo/Si multilayer improvements for EUV photomask performance

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标题	Mo/Si multilayer improvements for EUV photomask performance Mo/Si多层膜对EUV光掩模性能的改进相关领域材料科学 X射线反射率光掩模极紫外光刻双层堆栈（抽象数据类型）光电子学硅梁（结构）电压钼光学离子束沉积（地质）图层（电子）薄膜纳米技术化学抵抗膜冶金电气工程物理工程类古生物学生物生物化学程序设计语言计算机科学沉积物
网址	https://doi.org/10.1117/12.3034862
DOI	10.1117/12.3034862 doi
其它	期刊：作者：Kenji Yamamoto; Antonio Checco; Katrina Rook; Maryam Souri; Marjorie Chee; et al 出版日期：2024-08-26
求助人	Gaoge 在 2025-07-10 16:49:05 发布自北京，悬赏 20 积分
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