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 Oxygen Interactions with Silica Surfaces: Coupled Cluster and Density Functional Investigation and the Development of a New ReaxFF Potential 氧与二氧化硅表面的相互作用：耦合团簇和密度泛函研究及新ReaxFF势的发展
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期刊：The Journal of Physical Chemistry C 作者：Anant D. Kulkarni; Donald G. Truhlar; Sriram Goverapet Srinivasan; Adri C. T. van Duin; Paul Norman; et al 出版日期：2012-12-04 |
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