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 Growth and Physical Properties of LPCVD Polycrystalline Silicon Films LPCVD多晶硅薄膜的生长和物理性能
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期刊：Journal of The Electrochemical Society 作者：G. Harbeke; L. Krausbauer; E. F. Steigmeier; A. E. Widmer; H. F. Kappert; G. Neugebauer 出版日期：2006-06-15 |
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