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标题
Surface Reaction Kinetics of Chemical Vapor Infiltration of SiC from CH3SiCl3/H2 Revealed Using Ultradeep Microchannels
网址
https://doi.org/10.1021/acsaenm.5c00519
DOI
10.1021/acsaenm.5c00519 doi
其它 期刊：
作者：Kohei Shima; Yuhei Otaka; Noboru Satô; Yuichi Funato; Hidetoshi Sugiura; et al
出版日期：2025-09-17
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