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Characteristics of clean SiO2 atomic layer etching based on C6F6 physisorption |
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期刊:Applied Surface Science 作者:Da In Sung; Hyun Woo Tak; Hee‐Ju Kim; Dong Woo Kim; Geun Young Yeom 出版日期:2024-06-21 |
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(2025-6-4)