Plasma-enhanced atomic layer deposited HfO2 films using a novel heteroleptic cyclopentadienyl-based Hf precursor

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标题	Plasma-enhanced atomic layer deposited HfO2 films using a novel heteroleptic cyclopentadienyl-based Hf precursor
网址	http://dx.doi.org/10.1016/j.ceramint.2021.07.065
DOI	10.1016/j.ceramint.2021.07.065 doi
其它	期刊：Ceramics International 作者：Ji-hoon Baek; Wan-ho Choi; Hohoon Kim; Seonghak Cheon; Younghun Byun; et al 出版日期：2021-10-01
求助人	火星上初柳在 2026-08-14 16:51:06 发布自北京，悬赏 10 积分
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