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标题
High-k/metal gate stacks in gate first and replacement gate schemes
栅极优先和替代栅极方案中的高k/金属栅极叠层
相关领域
PMOS逻辑 NMOS逻辑 材料科学 金属浇口 光电子学 逻辑门 基质(水族馆) 电气工程 电子工程 栅氧化层 晶体管 电压 冶金 工程类 地质学 海洋学
网址
DOI
10.1109/ASMC.2010.5551460 doi
求助人
婷婷 在 2024-02-23 10:14:47 发布自四川,悬赏 10 积分
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