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标题
Using 3D Monte Carlo simulation to develop resists for next-generation lithography
相关领域
抵抗 平版印刷术 电子束光刻 蒙特卡罗方法 极紫外光刻 材料科学 制作 X射线光刻 纳米光刻 光刻胶 散射 邻近效应（电子束光刻） 光学 纳米技术 光电子学 物理 统计 数学 图层（电子） 医学 替代医学 病理
网址
https://doi.org/10.1117/12.2501813
DOI
10.1117/12.2501813 doi
其它 期刊：
作者：Hayden A. Alty; Scott Lewis; Richard E. P. Winpenny; Stephen G. Yeates
出版日期：2018-10-03
求助人
haoheee 在 2025-10-27 00:32:44 发布自吉林，悬赏 20 积分
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