Optical, structural and composition properties of silicon nitride films deposited by reactive radio-frequency sputtering, low pressure and plasma-enhanced chemical vapor deposition - 科研通

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标题	Optical, structural and composition properties of silicon nitride films deposited by reactive radio-frequency sputtering, low pressure and plasma-enhanced chemical vapor deposition 反应射频溅射、低压和等离子体增强化学气相沉积氮化硅薄膜的光学、结构和成分特性相关领域等离子体增强化学气相沉积化学气相沉积材料科学氮化硅薄膜 X射线光电子能谱溅射溅射沉积氮化硅傅里叶变换红外光谱光电子学分析化学（期刊）硅光学化学纳米技术化学工程物理工程类色谱法
网址	https://doi.org/10.1016/j.tsf.2022.139568
DOI	10.1016/j.tsf.2022.139568 doi
其它	期刊：Thin Solid Films 作者：Leonid Yu. Beliaev; Evgeniy Shkondin; Andrei V. Lavrinenko; Osamu Takayama 出版日期：2022-11-05
求助人	Araa 在 2025-07-22 15:50:02 发布自江西，悬赏 10 积分
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