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标题
Optical, structural and composition properties of silicon nitride films deposited by reactive radio-frequency sputtering, low pressure and plasma-enhanced chemical vapor deposition
反应射频溅射、低压和等离子体增强化学气相沉积氮化硅薄膜的光学、结构和成分特性
相关领域
等离子体增强化学气相沉积 化学气相沉积 材料科学 氮化硅 薄膜 X射线光电子能谱 溅射 溅射沉积 氮化硅 傅里叶变换红外光谱 光电子学 分析化学(期刊) 光学 化学 纳米技术 化学工程 物理 工程类 色谱法
网址
DOI
10.1016/j.tsf.2022.139568 doi
其它 期刊:Thin Solid Films
作者:Leonid Yu. Beliaev; Evgeniy Shkondin; Andrei V. Lavrinenko; Osamu Takayama
出版日期:2022-11-05
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