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 Study on the fundamental factors of the property evolution of a 300 mm polycrystalline trap-rich layer 300mm多晶富陷阱层性能演变的基本因素研究
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期刊：Semiconductor Science and Technology 作者：Rongwang Dai; Yun Liu; Ziwen Wang; Minghao Li; Tao Wei; et al 出版日期：2023-06-13 |
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