Etching of porous SiOCH materials in fluorocarbon-based plasmas

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标题	Etching of porous SiOCH materials in fluorocarbon-based plasmas
网址	http://dx.doi.org/10.1116/1.1815316
DOI	10.1116/1.1815316 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures Processing, Measurement, and Phenomena 作者：N. Posseme; T. Chevolleau; O. Joubert; L. Vallier; N. Rochat 出版日期：2004-11-01
求助人	冷酷的亦寒在 2026-08-04 23:38:30 发布自广东，悬赏 10 积分
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