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Nondestructive analysis of Al2O3/SiOx/Si passivation layers for photovoltaics using angle-resolved XPS and HAXPES techniques
相关领域
X射线光电子能谱 钝化 光伏 材料科学 光电子学 工程物理 纳米技术 化学工程 图层（电子） 光伏系统 工程类 电气工程
网址
http://dx.doi.org/10.1016/j.surfin.2026.109215
DOI
10.1016/j.surfin.2026.109215 doi
其它 期刊：Surfaces and Interfaces
作者：I-Chia Huang; Ting-Jia Yang; Pei-Chen Huang; Jui-Fu Tang; Chia-Chien Kuo; et al
出版日期：2026-08-01
求助人
一切皆有利于我 在 2026-07-11 08:50:12 发布自黑龙江，悬赏 10 积分
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