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 Reactive magnetron cosputtering of hard and conductive ternary nitride thin films: Ti–Zr–N and Ti–Ta–N 相关领域
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期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films 作者：G. Abadias; L. E. Koutsokeras; S. N. Dub; G. N. Tolmachova; A. Debelle; et al 出版日期：2010 |
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