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 A Selective BP/Si Contact Formed by Low-Temperature Plasma-Enhanced Atomic Layer Deposition 低温等离子体增强原子层沉积形成选择性BP/Si接触
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期刊：Technical Physics Letters 作者：А.С. Гудовских; D. A. Kudryashov; A I Baranov; A V Uvarov; I. A. Morozov 出版日期：2021-01-01 |
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