| 标题 |
[高分]
Growth Kinetics of Copper Films from Photoassisted CVD of Copperacetylacetonate 乙酰丙酮铜光辅助CVD生长铜膜的动力学
相关领域
铜
俄歇电子能谱
分压
托尔
分析化学(期刊)
基质(水族馆)
化学
大气温度范围
动力学
薄膜
分解
热分解
沉积(地质)
氧气
材料科学
纳米技术
有机化学
物理
量子力学
古生物学
海洋学
沉积物
生物
气象学
核物理学
热力学
地质学
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊:Journal de Physique IV (Proceedings) 作者:D. Tonneau; R. Pierrisnard; H. Dallaporta; W. Marine 出版日期:1995-06-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 求助已完成,仅限求助人下载。 |
|
温馨提示:该文献已被科研通 学术中心 收录,前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库,收集文献的基本信息(如标题、摘要、期刊、作者、被引量等),不提供下载功能。如需下载文献全文,请通过文献求助获取。
|