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 Simple Smoothing of the Bottom Silicon Surface Using Wet Chemical Etching Methods for Epitaxial III‐V/Silicon Tandem Manufacturing 用于外延III-V/硅串联制造的湿化学蚀刻方法简单平滑底部硅表面
相关领域
硅
外延
串联
蚀刻（微加工）
材料科学
简单（哲学）
各向同性腐蚀
平滑的
纳米技术
光电子学
复合材料
计算机科学
哲学
认识论
图层（电子）
计算机视觉
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期刊：Energy Technology 作者：Mengmeng Chu; Junhan Bae; Muhammad Quddamah Khokhar; Alamgeer; Maha Nur Aida; et al 出版日期：2024-10-25 |
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