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  Advantages and Challenges of Plasma Immersion Ion Implantation for Power Devices Manufacturing on Si, SiC and GaN using PULSION® Tool 利用脉冲®工具在Si、SiC和GaN上制造功率器件的等离子体浸没离子注入的优势和挑战
相关领域
等离子体浸没离子注入
材料科学
兴奋剂
离子注入
光电子学
碳化硅
制作
宽禁带半导体
硅
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高电子迁移率晶体管
纳米技术
工程物理
电气工程
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晶体管
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医学
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期刊： 作者：Frank Torregrosa; Yohann Spiegel; Laurent Roux; Guillaume Sempere; Gaël Borvon; et al 出版日期：2018-09-01 |
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