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标题
Effect of Hydrophobicity and Surface Potential of Silicon on SiO<sub>2</sub> Etching in Nanometer-Sized Narrow Spaces
硅的疏水性和表面电位对纳米级窄空间SiO2刻蚀的影响
相关领域
纳米 蚀刻(微加工) 材料科学 各向同性腐蚀 半导体 离子 曲面(拓扑) 反应离子刻蚀 纳米技术 干法蚀刻 化学工程 缩放比例 光电子学 复合材料 化学 图层(电子) 几何学 有机化学 工程类 数学
网址
DOI
10.4028/www.scientific.net/ssp.314.155 doi
其它 期刊:Solid State Phenomena
作者:Dai Ueda; Yosuke Hanawa; Hiroaki Kitagawa; Naozumi Fujiwara; Masayuki Otsuji; et al
出版日期:2021-02-01
求助人
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