| 标题 |
 Effect of Annealing Ferroelectric HfO 2 Thin Films: In Situ, High Temperature X‐Ray Diffraction 退火对铁电HfO 2薄膜的影响：原位高温X射线衍射
相关领域
材料科学
铁电性
退火（玻璃）
正交晶系
衍射
结晶
结晶学
X射线晶体学
薄膜
光电子学
晶体结构
纳米技术
电介质
化学工程
光学
复合材料
化学
物理
工程类
|
| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：Advanced electronic materials 作者：Min Hyuk Park; Ching-Chang Chung; Tony Schenk; Claudia Richter; Karl Opsomer; et al 出版日期：2018-07-01 |
| 求助人 | |
| 下载 | 该求助完结已超 24 小时，文件已从服务器自动删除，无法下载。 |
|
温馨提示：该文献已被科研通 学术中心 收录，前往查看
科研通『学术中心』是文献索引库，收集文献的基本信息（如标题、摘要、期刊、作者、被引量等），不提供下载功能。如需下载文献全文，请通过文献求助获取。
|
PDF的下载单位、IP信息已删除
(2025-6-4)
Criminology34
lsl
ccm
若宫伊芙
浮游
哈哈
清飏
寻道图强
归去来兮
MchemG
mantou002
无极微光
sxb10101
BowieHuang
灰灰
旨酒欣欣
natmed
dawnfrf
yyds
干净寻冬
方汀
柴桑青木
阿里
hhhhhh
皖公网安备34019202002308
