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标题
Surface reaction modelling of thermal atomic layer etching on blanket hafnium oxide and its application on high aspect ratio structures
相关领域
蚀刻（微加工） 材料科学 图层（电子） 反应离子刻蚀 化学工程 分析化学（期刊） 纳米技术 化学 有机化学 工程类
网址
https://doi.org/10.1116/6.0002244
DOI
10.1116/6.0002244 doi
其它 期刊：Journal of Vacuum Science & Technology A Vacuum Surfaces and Films
作者：Andreas Fischer; David S. L. Mui; Aaron Routzahn; Ryan J. Gasvoda; Jim Sims; et al
出版日期：2022-12-28
求助人
lyw 在 2026-01-08 13:56:12 发布自辽宁，悬赏 10 积分
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