| 标题 |
 Crystallization Disruption via Atomic Layer Deposition Substitutional Dopant Scheduling: High-Mobility Amorphous Indium Zinc Tin Oxide 相关领域
掺杂剂
结晶
无定形固体
铟
锡
原子层沉积
材料科学
锌
氧化铟锡
化学工程
图层（电子）
无机化学
化学
冶金
兴奋剂
纳米技术
光电子学
结晶学
工程类
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| 网址 | |
| DOI | |
| 其它 |
期刊：ACS Applied Optical Materials 作者：Mark Muir; Jacob E. Kupferberg; Jessica C. Jones; Vepa Rozyyev; David M. Tiede; et al 出版日期：2024-05-03 |
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