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标题
Crystallization Disruption via Atomic Layer Deposition Substitutional Dopant Scheduling: High-Mobility Amorphous Indium Zinc Tin Oxide
相关领域
掺杂剂 结晶 无定形固体 铟 锡 原子层沉积 材料科学 锌 氧化铟锡 化学工程 图层（电子） 无机化学 化学 冶金 兴奋剂 纳米技术 光电子学 结晶学 工程类
网址
https://doi.org/10.1021/acsaom.4c00135
DOI
10.1021/acsaom.4c00135 doi
其它 期刊：ACS Applied Optical Materials
作者：Mark Muir; Jacob E. Kupferberg; Jessica C. Jones; Vepa Rozyyev; David M. Tiede; et al
出版日期：2024-05-03
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空辰 在 2026-01-05 16:28:00 发布自贵州，悬赏 10 积分
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