Combined ultraviolet- and electron-beam lithography with Micro-Resist-Technology GmbH ma-N1400 resist

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标题	Combined ultraviolet- and electron-beam lithography with Micro-Resist-Technology GmbH ma-N1400 resist 相关领域抵抗材料科学电子束光刻平版印刷术光电子学下一代光刻制作蚀刻（微加工）光学光刻纳米光刻图层（电子）纳米技术病理物理替代医学医学
网址	https://doi.org/10.1116/6.0001918
DOI	10.1116/6.0001918 doi
其它	期刊：Journal of Vacuum Science & Technology B Nanotechnology and Microelectronics Materials Processing Measurement and Phenomena 作者：David J. Thoen; Vignesh Murugesan; Alejandro Pascual Laguna; K. Karatsu; Akira Endo; et al 出版日期：2022-09-01
求助人	慕夏在 2026-01-05 08:39:04 发布自上海，悬赏 10 积分
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