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Defect Formation Behaviors in Heavily Doped Czochralski Silicon
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网址
https://doi.org/10.1149/1.2195652
DOI
10.1149/1.2195652 doi
其它 期刊：ECS Transactions
作者：Wataru Sugimura; Toshiaki Ono; Shigeru Umeno; Masataka Hourai; Koji Sueoka
出版日期：2006-04-28
求助人
CP 在 2026-01-30 08:54:04 发布自浙江，悬赏 10 积分
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