Optimisation of argon plasma pre-treatment for enhanced silicon surface preparation for germanium epitaxy

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标题	Optimisation of argon plasma pre-treatment for enhanced silicon surface preparation for germanium epitaxy
网址	https://doi.org/10.1088/1361-6463/ae0fa6
DOI	10.1088/1361-6463/ae0fa6 doi
其它	期刊：Journal of Physics D: Applied Physics 作者：Xuanchang Zhang; Haotian Zeng; Hui Jia; Xueying Yu; Suguo Huo; et al 出版日期：2025
求助人	金白在 2026-03-18 18:03:56 发布自河南，悬赏 10 积分
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