Inductively coupled plasma etching of chemical-vapor-deposited amorphous carbon in N2/H2/Ar chemistries

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标题	Inductively coupled plasma etching of chemical-vapor-deposited amorphous carbon in N2/H2/Ar chemistries
网址	https://doi.org/10.3938/jkps.56.1441
DOI	10.3938/jkps.56.1441 doi
其它	期刊：Journal of the Korean Physical Society 作者：Nae-Eung Lee; Hag Joo Lee; Bong Soo Kwon; Young Rok Park; Joung-Ho Ahn; et al 出版日期：2010-05-14
求助人	cyyan 在 2026-09-16 13:04:22 发布自上海，悬赏 10 积分
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