The Improvement of Poly-Si Gate Line Width Roughness

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标题	The Improvement of Poly-Si Gate Line Width Roughness
网址	http://dx.doi.org/10.1149/06001.0367ecst
DOI	10.1149/06001.0367ecst doi
其它	期刊：ECS Transactions 作者：Xiao-Ying Meng; Yun-Qi Sui; Qiu-Hua Han; Qi-Yang He; Xuan Zhang; et al 出版日期：2014-02-27
求助人	Bean 在 2026-08-30 14:49:02 发布自四川，悬赏 10 积分
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