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 Multilayer InSe–Te van der Waals Heterostructures with an Ultrahigh Rectification Ratio and Ultrasensitive Photoresponse 相关领域
材料科学
光电探测器
光电子学
异质结
暗电流
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整改
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光电导性
比探测率
偏压
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期刊：ACS Applied Materials & Interfaces 作者：Fanglu Qin; Feng Gao; Mingjin Dai; Yunxia Hu; Miaomiao Yu; et al 出版日期：2020-07-27 |
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