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 Effect of precursor concentration and post-annealing temperature on (040) oriented tin sulfide thin films deposited on SLG/Mo substrates by spin coating 前驱体浓度和后退火温度对SLG/Mo衬底上旋涂沉积（040）取向硫化锡薄膜的影响
相关领域
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期刊：Current Applied Physics 作者：Pravin S. Pawar; Neerugatti KrishnaRao Eswar; Jaeyeong Heo 出版日期：2020-10-26 |
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Suji
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