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![]() 载流子俘获对CVD生长厚度达250 μ m的4H-SiC外延层辐射探测性能的影响
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期刊:Journal of Crystal Growth 作者:Joshua W. Kleppinger; Sandeep K. Chaudhuri; OmerFaruk Karadavut; Ritwik Nag; Krishna C. Mandal 出版日期:2022-01-22 |
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liuxch5
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