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  High-power EUV free-electron laser for future lithography 用于未来光刻的高功率EUV自由电子激光器
相关领域
极紫外光刻
极端紫外线
光学
自由电子激光器
平版印刷术
物理
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Norio Nakamura; R. Kato; Hiroshi Sakai; K. Tsuchiya; Yasunori Tanimoto; et al 出版日期：2023-03-06 |
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