High-power EUV free-electron laser for future lithography

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标题	High-power EUV free-electron laser for future lithography 用于未来光刻的高功率EUV自由电子激光器相关领域极紫外光刻极端紫外线光学自由电子激光器平版印刷术物理激光器光电子学
网址	https://doi.org/10.35848/1347-4065/acc18c AI链接 iop.orgdoi.org
DOI	10.35848/1347-4065/acc18c doi
其它	期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Norio Nakamura; R. Kato; Hiroshi Sakai; K. Tsuchiya; Yasunori Tanimoto; et al 出版日期：2023-03-06
求助人	22222 在 2025-07-31 12:25:34 发布自河南，悬赏 10 积分
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