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 Impact of hydrogen plasma treatment on fluorine-contained silicon nitride films 氢等离子体处理对含氟氮化硅薄膜的影响
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期刊：Japanese Journal of Applied Physics 作者：Takumi Kobayashi; Haruto Omata; Kiyokazu Nakagawa; Yuichiro Mitani 出版日期：2024-03-19 |
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