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 Characteristics of doped oxides and their use in silicon device fabrication 掺杂氧化物的特性及其在硅器件制造中的应用
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期刊：Journal of Crystal Growth 作者：D.M. Brown; M. Garfinkel; M. Ghezzo; E.A. Taft; A. Tenney; J. Wong 出版日期：2002-10-17 |
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