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 A revisit from CVD kinetics to CVD reactor: Investigating uniform growth mechanism of polysilicon in a reduction furnace 从化学沉积动力学到化学沉积反应器的重温：研究还原炉中硅的均匀生长机制
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期刊：Chemical Engineering Science 作者：Wei Si; Ning Wang; Yuan Zong; Gance Dai; Fanzheng Meng; et al 出版日期：2024-04-21 |
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