Boron-doped amorphous carbon deposited by DC sputtering for a hardmask: Microstructure and dry etching properties

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标题	Boron-doped amorphous carbon deposited by DC sputtering for a hardmask: Microstructure and dry etching properties
网址	https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2023.157895
DOI	10.1016/j.apsusc.2023.157895 doi
其它	期刊：Applied Surface Science 作者：Sung‐Tae Kim; Ung-gi Kim; Jinseok Ryu; Do Kyun Kim; Miyoung Kim; et al 出版日期：2023-06-26
求助人	helmholtz 在 2026-09-20 11:07:12 发布自北京，悬赏 10 积分
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