Synthesis of chemically amplified photoresist polymer containing four (Meth)acrylate monomers via RAFT polymerization and its application for KrF lithography

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标题	Synthesis of chemically amplified photoresist polymer containing four (Meth)acrylate monomers via RAFT polymerization and its application for KrF lithography
网址	https://doi.org/10.1007/s10965-016-0996-3
DOI	10.1007/s10965-016-0996-3 doi
其它	期刊：Journal of Polymer Research 作者：Hu Li; Jingcheng Liu; Xiangfei Zheng; Changwei Ji; Qidao Mu; et al 出版日期：2016-04-28
求助人	Domo 在 2026-08-19 14:57:13 发布自中国台湾，悬赏 10 积分
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