Silicon surface passivation by atomic layer deposited Al2O3

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标题	Silicon surface passivation by atomic layer deposited Al2O3
网址	http://dx.doi.org/10.1063/1.2963707
DOI	10.1063/1.2963707 doi
其它	期刊：Journal of Applied Physics 作者：B. Hoex; J. Schmidt; P. Pohl; M. C. M. van de Sanden; W. M. M. Kessels 出版日期：2008-08-15
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